Canon представила установку под обозначением FPA-1200NZ2C, позволяющую производить 5-нанометровые чипы. Это первое коммерческое решение такого рода, но будут и другие: Canon в будущем доработает систему так, чтобы с ее помощью можно было производить 2-нанометровые чипы.

Самое главное — тут используется подход, альтернативный обычной фотолитографии. В основе FPA-1200NZ2C лежит принцип наноимпринт-литографии: вместо фотошаблона как в классической оптической литографии используется штамп с нанорельефом. А нанорельеф, в свою очередь, служит для формирования маски из слоя полимера на поверхности полупроводниковой подложки. Canon уверяет, что наноимпринт-литография проще и дешевле.

«Поскольку новое решение не требует источника света со специальной длиной волны, он может значительно снизить энергопотребление по сравнению с фотолитографическим оборудованием для самых современных полупроводников, тем самым способствуя к сокращению выбросов CO2», — заявила Canon.

Вряд ли оборудование японской компании заинтересует ту же TSMC, но, например, в Китае были бы рады заполучить машины, которые могут производить 5-нанометровые чипы. Huawei и так увеличила объемы закупок DUV-литографов ASML, и не исключено, что она заинтересуется и FPA-1200NZ2C.