Санкции США отрезали Huawei от современных однокристальных систем, и в целом невозможность производства SoC и CPU по передовым технологическим нормам – проблема для китайских (не тайваньских) компаний. Но в обозримом будущем эта проблема может быть решена: Huawei оформила патент на технологию фотолитографии в сверхжестком ультрафиолете (EUV). И хотя патент вовсе не означает быстрое появление готового литографа, у Huawei достаточно ресурсов (как финансовых, так и интеллектуальных), чтобы создать готовое решение.

Изображение EUV-литографа ASML

Патент, поданный Huawei в Государственное ведомство интеллектуальной собственности в середине ноября, проходит под номером 202110524685X. Он описывает сам EUV-литограф и его ключевые компоненты, включая источник излучения с длиной волны 13,5 нм, набор отражающих зеркал и «технологии управления».

Аппараты фотолитографии в глубоком ультрафиолете разрабатывали разные компании, но только ASML из Нидерландов преуспела. Хотя на это ушло более 10 лет разработки и большие финансовые вливания от партнеров, которым ASML такие машины и поставляет – Intel, Samsung и TSMC. А, например, китайская SMIC не смогла получить уже оплаченный аппарат: требования США запретили ASML продавать системы фотолитографии в сверхжестком ультрафиолете Китаю. Поэтому Китаю так нужен собственный аппарат, и Huawei уже сделала большой шаг к его созданию.